 光學光電產品
|
晶片製造 |
IC 封装 |
|
 Jelight Company Inc. 美國JELIGHT紫外臭氧清洗機  JELIGHT紫外清洗機是一種快速表面清洗工具。其原理是利用紫外光子對有機物質所起的光氧化作用以達到清洗粘附在物體表面上的有機化合物（碳氫化合物）的目的。是清除硅、砷化鎵、石英、藍寶石、玻璃、雲母、陶瓷、金屬等表面有機污染物的最安全、最有效的方法。除清洗外，JELIGHT紫外清洗机還可用於表面改善，如通過紫外清理後，塗層與表面的粘附力可大大增加，並可用於生物晶片製作過程中PDMS鍵合等。 紫外清洗優點 - 被清洗的表面除了光子，不與任何物體發生接觸，有機物經過紫外光照射發生光敏氧化回應後，生成可揮發性氣體 （CO2、CO、H2O等） 從表面消散，隨著排風系統抽走。
- 表面潔淨度高，且不會像溶液清洗時發生二次污染。
- 光清洗的表面不會受到損傷，由於光子的能量相對比氬等離子體濺射或惰性氣體離子轟擊的能量小，光清洗後的表面不會受到損傷或發生晶體缺陷的現象。
- 光清洗對物體表面微細部位（如孔穴、微細溝槽等）具有有效而徹底的清洗效果。由於紫外光是奈米短波紫外線，能夠射入材料表面極為細微的部位，發生光敏氧化回應，充分表現出光清洗的徹底性。
產品型號目錄: Model | Cleaning tray size | Housing dimmension | Power requirements | | | Width | Depth | Max Height Adjustment | Width | Depth | Height | Voltage | Frequency | 144AX | 12 | 12 | 3 | 16 | 24 | 11 | 100-120 | 60 | 144AX-220 | 12 | 12 | 3 | 16 | 24 | 11 | 200-240 | 50 | 256 | 16 | 16 | 3 | 20 | 28 | 11 | 100-120 | 60 | 256-220 | 16 | 16 | 3 | 20 | 28 | 11 | 200-240 | 50 | 288A | 24 | 12 | 3 | 28 | 24 | 11 | 100-120 | 60 | 288A-220 | 24 | 12 | 3 | 28 | 24 | 11 | 200-240 | 50 | 342 | 6 | 6 | 4 | 8 | 13 | 10 | 100-120 | 60 | 342-220 | 6 | 6 | 4 | 8 | 13 | 10 | 200-240 | 50 | 384 | 24 | 16 | 3 | 28 | 28 | 11 | 100-120 | 60 | 384-220 | 24 | 26 | 3 | 28 | 28 | 11 | 200-240 | 50 | 42 | 6 | 6 | 1 | 8 | 13 | 8 | 100-120 | 60 | 42-220 | 6 | 6 | 1 | 8 | 13 | 8 | 200-240 | 50 | 5144AX | 12 | 12 | 5 | 16.3 | 28 | 14 | 100-120 | 60 | 576 | 24.23 | 24 | 3 | 28 | 36 | 11 | 100-120 | 60 | 576-220 | 24.23 | 24 | 3 | 28 | 36 | 11 | 200-240 | 50 | 7576 | 24 | 24 | 7 | 28 | 36 | 15 | 100-120 | 60 | 7576-220 | 24 | 24 | 7 | 28 | 36 | 15 | 200-240 | 50 |
相關應用 ■在進行薄膜沈積之前先進行基片清洗。清除浮渣和穩定化處理光刻膠。超高真空度密封。 ■清洗矽晶片，透鏡，反光鏡，太陽能面板，冷軋鋼，慣性引導零件和 GaAs晶片 ■清潔焊劑，混合電路以及平板LCD顯示器 ■蝕刻特氟隆，氟橡膠以及其它有機材料 ■增強GaAs 和Si氧化物鈍化表面 ■增強玻璃的除氣作用 ■基片藍膜去除 ■增強塑膠表面的鍍膜的黏附性 ■基片終測後墨跡清楚 ■去除光刻膠 ■平板顯示器/液晶顯示器 ■去除光刻機台上的光刻膠殘留物 ■在電路板封裝和打片之前清洗） ■光纖 ■增強表面親水特性 ■為生物科學應用做清洗和消毒 ■光學透鏡 ■其它應用 更多應用信息及相關技術問題，歡迎您與我們聯繫！ |
|
|
|
