| IMP無光罩曝光機
---高性價比先進光刻技術，特徵線寬達1微米 
美國IMP（Intelligent Micro Patterning, LLC）公司憑借多年的光刻設備生產經驗和多項無光罩曝光專利技術，已成為無光罩紫外光刻領域的領導者。 產品優點： - 微米和亞微米光刻
- 紫外光直寫曝光,無需光罩，大幅節約了光罩加工費用
- 靈活性高，可直接通過電腦設計圖形，並可根據設計要求隨意調整。
- 可升級開放性系統設計。
- 按照客戶要求可從低端到高端自由配置
- 使用維護簡單, 設備耗材價格低。
- 應用範圍廣，目前廣泛應用於半導體、生物芯片、微機電系統、傳感器、微化學、光學等領域。
| | SF-100系列曝光機,具有多種型號可選,可適應各種不同研究及小批量生產需求。 | | 型號 | SF-100 XCEL | SF-100 XPRESS | SF-100 XTREME | SF-100 XTEND | 光
學
系
統 | 像素:15um. 可選配3X聚集透鏡,獲得5um像素
寬譜曝光
>750K像素/曝光區域 | 像素: 1um,2um或5um
寬譜或365nm,435nm曝光
可按需求選配各種濾波器
>750K像素/曝光區域 | 高分辨率光學系統, 3組縮小透鏡
像素: 1um,2um或5um.
寬譜或365nm,435nm曝光
可按需求選配各種濾波器
>750K像素/曝光區域 | 兩套光學系統分別可獲得1um, 2um和5um像素和15um像素
兩組光學系統可快速切換
寬譜或365nm,435nm曝光
可按需求選配各種濾波器
>750K像素/曝光區域 | 樣
品
台 | 標配中不含平台，客戶需要另外選配。
最大標準樣品尺寸：150mm x 150mm x 75mm | Alio 100mm XYZ 壓電平台
最大標準樣品尺寸：100mm x 100mm x 25mm。
集成真空吸盤
可選配防震台 | Aerotech滾珠絲桿驅動或線性驅動平台，XYZ Theta
最大標準樣品尺寸：
Ball Screw: 150 x 150 x 25(mm) Linear Drive Stage: 200 x 200 x 25(mm)
集成真空吸盤，標配防震台 | Alio 200mm XYZ Theta壓電平台或Aerotech 線性驅動平台， XYZ Theta
最大標準樣品尺寸100mm x 100mm x25mm，
集成真空吸盤, 標配防震台 | 選
項 | 可根據客戶具體要求配置不同樣品台
可選配旋轉平台
微流體加工平台,選配 | 可根據客戶具體要求配置不同樣品台
可選配旋轉平台
可安裝微流體加工平台 | 可根據客戶具體要求配置不同樣品台
可選配旋轉平台
可安裝微流體加工平台
可升級至全自動樣品傳輸 | 可根據客戶具體要求配置不同 樣品台
可選配旋轉平台
可安裝微流體加工平台
可升級至全自動樣品傳輸 |
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